Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies


Artigos e Patentes

Laboratório de Pesquisas Fotovoltaicas - Universidade Estadual de Campinas (Unicamp)

  • 2011
  • R. G. F. Gonçalves, R. G. Lacerda, A.S. Ferlauto, L.O. Ladeira, K. Krambrock, M. V. B. Pinheiro, A. S. Leal, G. A. Viana and F. C. Marques. New material for low-dose Brachtherapy seeds: Xe-doped amorphous carbon films with post-growth neutron activated 125I, Applied Radiation and Isotopes, 69(1) 118-121(2011). / Ver detalhes

  • 2010
  • Gustavo Alexandre Viana (bolsa FAPESP). Desenvolvimento de filmes finos por técnica de plasma, livre de bombeamento de vácuo, com implantação de xenônio para uso potencial no tratamento de Câncer, Campinas, 05/08/2010.Tese de Doutorado. / Ver detalhes

  • D. S. da Silva, A.D.S. Côrtes, P. R. Mei e F. C. Marques. Resposta espectral em células solares com camada dupla antirrefletora (a-C:H/MgF2), anais do III Congresso Brasileiro de Energia Solar - Belém, 21 a 24 de setembro de 2010. / Ver detalhes

  • A.D.S. Côrtes, D. S. da Silva, F. C. Marques, C. P. Guerra and P. R. Mei. Aplicação de processos de gettering em células fotovoltaicas fabricadas com silício purificado por rota metalúrgica, anais do III Congresso Brasileiro de Energia Solar - Belém, 21 a 24 de setembro de 2010. / Ver detalhes

  • M. H. Oliveira, Jr., G. A. Viana, M. M. de Lima, Jr., A. Cros, A. Cantarero, and F. C. Marques. Influence of krypton atoms on the structure of hydrogenated amorphous carbon deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition, J. Appl. Phys. 108, 123525 (2010). / Ver detalhes

  • F.C. Marques, G. A. Viana, E. F. Motta,  D. S. Silva, A. D. S. Côrtes,  Tetrahedral amorphous carbon (t-aC) deposited by filtered cathodic vacuum arc (FCVA) bombarded by argon ions, ICMCTF - San Diego, CA- USA, 2010. / Ver detalhes

  • Viana GA (UNICAMP), Mottta EF(UNICAMP), Costa, MEHM (PUC-Rio), Freire Jr. FL (PUC-Rio) e Marques, Francisco das Chagas (UNICAMP) , "Diamond-like carbon deposited by plasma techniques as a function of methane". Diamond and Related Materials, 19 (2010) 756. / Ver detalhes

  • 2009
  • G. A. Viana and F. C. Marques. Amorphous Carbon Deposited By Sputtering And Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Without Vacuum Pumping During Deposition, International Conference on Metallurgical Coating and Thin Films, San Diego, April 27, 2009. / Ver detalhes

  • S.P.Moreira, A.D.S Côrtes, F.C. Marques e P.R. Mei. Purification of silicon for Terrestrial solar cell by zone melting using metallurgical silicon, Proceedings of the 3rd International Conference on Integrity, Reliability and Failure ( ISBN 978-972-8826-21-5) Editors: J.S.S. Gomes and S.A. Meguid. Porto, Portugal, July 20-24,  2009. / Ver detalhes

  • A. Viana and F. C. Marques, Amorphous carbon deposited without vacuum pumping during deposition" ICMCTF - San Diego, CA- USA, 2009. / Ver detalhes


Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies O Instituto, Serviços, Faça Parte, Fale Conosco

Engenharia de Superfícies Notícias, Artigos e Patentes, Midiateca, Eventos, Blog

Creative Commons License Conteúdo licenciado pelo Creative Commons

O Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies é um dos Institutos Nacionais de Ciência e Tecnologia (INCTs) do CNPq

Apoio

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico

O Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, um dos INCTs do CNPq, reúne e articula em nível nacional os melhores recursos humanos e de infraestrutura em engenharia de superfícies. O instituto propõe uma estreita colaboração entre grupos de pesquisa e sistemas produtivos a serviço do crescimento sustentável do Brasil pela via da inovação tecnológica.

Desenvolvido por TUA Tecnologia