Participantes
Laboratório de Filmes Finos
Histórico do laboratório
O Laboratório de Filmes Finos do Instituto de Física da Universidade Federal Fluminense foi recentemente consolidado, após continuada agregação de recursos e competências experimentais a partir de 2004, quando sua equipe iniciou o desenvolvimento de uma fonte de plasmas a catodo oco de plasmas paralelos. Hoje dispõe de infraestrutura básica para a produção e caracterização de filmes DLC.
Competências científicas e tecnológicas do laboratório em engenharia de superfícies
A competência do laboratório é focalizada em revestimentos à base de DLC (Diamond-Like Carbon) depositados por PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depostion), sua modificação através da incorporação de outros elementos e tratamentos por plasmas. O laboratório atua também no desenvolvimento de novos processos para deposição por PECVD e, recentemente, vem também desenvolvendo estudos na utilização de ablação por laser para a produção de filmes de DLC não hidrogenados.
No laboratório foi desenvolvida competência na caracterização in situ da produção de filmes DLC por técnicas ópticas, a qual pode ser estendida à caracterização de outros revestimentos ou processos utilizados em engenharia de superfícies.
Descrição da infraestrutura física relacionada ao Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies
- Sistema para deposição de revestimentos de DLC por PECVD a radiofrequência, com automação computacional dos parâmetros importantes na determinação das propriedades dos revestimentos (chaveamento, pressão e vazão de gases, e potência de radiofrequência) em dois processos: PECVD usual e PECVD a catodo oco de placas paralelas. A câmara de deposição tem 30 cm de diâmetro por 35 cm de altura. Os filmes depositados tem seu crescimento monitorado in situ por sistema de reflectância a laser de 638 nm de comprimento de onda, em sistema acoplado ao sistema de controle do equipamento. Os plasmas utilizados são monitorados por espectrômetro de emissão óptica, na faixa de 500-1100 nm de comprimento de onda.
- Sistema para deposição de filmes de DLC não hidrogenado por ablação por laser de alvos de grafite, com laser Nd:Yag de 1064 nm, pulsos de 10 ns com até 1J de energia.
Equipe do Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies no laboratório
- Dante Ferreira Franceschini Filho, Doutor.
Parceiros do laboratório
Petrobrás, através da participação na Rede de Materiais e Corrosão.
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