O Laboratório de Pesquisas Fotovoltaicas (LPF) do Instituto de Física da UNICAMP foi fundado no início da década de 1980. Algumas das importantes contribuições do grupo em dispositivos fotovoltaicos nas décadas de 80 e 90 foram:
Paralelamente, mas principalmente a partir do início da década de 1990, o laboratório tem se dedicado mais ao estudo de materiais semicondutores amorfos e nanoestruturas com potencial aplicação em dispositivos fotovoltaicos estudando materiais como silício amorfo (a-Si:H), germânio amorfo (a-Ge:H), carbono amorfo (a-C, e a-C:H), ligas e dopagens destes elementos com elementos da coluna 3 e 5. Outra área importante do grupo é o desenvolvimento de superfícies duras por diferentes técnicas visando aplicações na indústria metal-mecânica.
Atualmente a divisão deste laboratório envolvida no Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies está mais dedicada ao estudo de filmes finos e materiais nanoestruturados para aplicações na indústria metal-mecânica e em dispositivos fotovoltaicos. Ênfase tem sido dada a filmes finos de alta dureza e baixo coeficiente de atrito para o recobrimento de ferramentas. Para isto utilizamos várias técnicas de preparação de materiais como rf Sputtering, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD); Filtered Cathodic Vacuum Arc (FCVA), Electrom-Beam; Spray Químico, Ion Beam Assisted Deposition (IBAD).
O grupo tem desenvolvido materiais como tetrahedral amorphous carbon (ta-C), diamond-like carbon (DLC), polimeric like carbon (PLC), graphitic-like carbon (GLC), utilizando diferentes técnicas. Filmes finos de ta-C e DLC são extremamente duros, com dureza que pode chegar a dezenas de GPa, tipicamente entre 15 GPa e 50 GPa. São realizados vários estudos básicos das propriedades optoeletrônicas, estruturais e termomecânicas destes filmes utilizando técnicas como transmissão óptica, FTIR, RBS, SEM, TEM, nanodureza, stress, EXAFS, XPS, raios-X entre outras.
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