Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies


Serviços

Atuando desde 2009 com recursos humanos altamente especializados e infraestrutura avançada, o Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies tem demonstrado sua capacidade de interagir com diversos sistemas industriais para transferência de tecnologia, serviços tecnológicos e desenvolvimento de produtos, processos e fornecedores.

O Instituto disponibiliza para empresas e/ou outros laboratórios acadêmicos, equipamentos de fabricação, modificação e análise de superfícies, e equipes especializadas e competentes para operá-los e analisar seus resultados.

Fabricação e modificação de superfícies e revestimentos

Implantador iônico, para implantação e irradiação de materiais. Local: UFGRS (Porto Alegre, RS), Laboratório de Implantação Iônica. Contato: implantador.if.ufrgs.br. Mais informações sobre a técnica.

Deposição por camada atômica (ALD, Atomic Layer Deposition), Bruker, para deposição de filmes finos de óxido (Al2O3, ZnO, TiO2, SiO2) pela técnica layer-by-layer. Local: UNICAMP (Campinas, SP), Laboratório de Pesquisa Fotovoltaica. Contato: marques@ifi.unicamp.br.

Deposição por arco catódico filtrado (FCVA, filtered cathodic vacuum arc), para deposição de filmes finos duros de carbono. Local: UNICAMP (Campinas, SP), Laboratório de Pesquisa Fotovoltaica. Contato: marques@ifi.unicamp.br.

Spin Coating Laurel WS400 para deposição de filmes finos a partir de soluções em substratos com a aplicação de altas rotações. Adequado para a deposição de resinas e filmes finos poliméricos. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia. Contato: papaleo@pucrs.br.

Sistema de deposição por sputtering com inserção para o recobrimento de pós, para deposição de filmes finos em superfícies planas e em pós. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia. Contato: papaleo@pucrs.br.

Forno tubular de três zonas com rampas de aquecimento programáveis, para crescimento de filmes por CVD, síntese de nanofios e nanopartículas. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia. Contato: papaleo@pucrs.br.

Reatores para crescimento de filmes finos de DLC em qualquer tipo de substrato. Opera em temperatura baixa (< 150 C). Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS). Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Reatores para crescimento de diamante-CVD pela técnica HFCVD. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS). Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Reator para crescimento de diamante-CVD via técnica de descarga em microondas, 2,45 GHz. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS). Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Reatores tipo tubular (50 e 100 cm de diâmetro) para crescimento de nanotubos de carbono. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS). Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Reatores para crescimento de DLC, de médio e grande porte. Local: CVD Vale Ltda. Contato: Luis Bonetti (12) 3944-1126.

Reatores para crescimento de diamante-CVD. Local: CVD Vale Ltda. Contato: Luis Bonetti (12) 3944-1126.

Plasma Etching Femto de 1 kW, da Diener Electronic. Equipamento de tratamento à plasma para limpeza e ativação de superfícies. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia. Contato: papaleo@pucrs.br.

Equipamentos para produção de recobrimentos a partir de fase gasosa (PECVD – Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br. Sistemas de deposição por plasma.

Duas câmaras multipropósito para deposição por plasma, compartilhando a mesma fonte de radiofrequência, de 600 W de potência, equipadas com controladores de vazão mássica de gases e manômetros capacitivos. Gases de trabalho CH4, CH2, NH3, H2, O2, Ar, He e N2. Câmara 1 – vácuo intermediário. Câmara de vácuo em aço inox de 28 l de volume, pressão de base de 10-3 torr. Dotada de filtro coletor de nanopartículas, para operação com plasmas empoeirados. Câmara 2 – alto vácuo. Câmara de vácuo em aço inox de 63 l de volume. Sistema de vácuo campo pressão de base de 10-6 torr. Dotada de sistema de aquecimento de substratos, quando os mesmos estão aterrados. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de Filmes Finos. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Sistema de deposição por laser pulsado (PLD). Câmara de vácuo esférica, de aço inox, com 48 l de volume, pressão de base de 1x10-9 Torr. Equipada com medidores de vazão mássica, manômetro capacitivo, acionador de alvos (seleção e rotação de até seis alvos de 1”), aquecedor de substratos e espectrômetro de massas para plasmas. Dois Lasers de NdYAG para fazer a ablação dos alvos acionamento de 354 / 532 / 1064 nm, com 0,3 J/pulso (10 ns de largura). Estes laser podem ser usados para ablação por laser em líquidos, em montagem disponível no laboratório. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de Filmes Finos. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Sistema de deposição por laser pulsado (PLD). Modelo PLD-MBE da PVD, com controle computacional completo do experimento, incluindo posicionamento e aquecimento do substrato, seleção e rotação de alvos, e admissão de gases. Equipado com laser de excímero, 246 nm de comprimento de onda, 0,8 J de energia por pulso de 10 ns de duração. Equipado também com monitoramento do crescimento de camadas por meio de RHEED (Reflection High Energy Electron Diffraction). Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de Filmes Finos. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Equipamento PTA (Plasma Transferred Arc) – DELORO STELLITE. Técnica que utiliza o princípio da soldagem a plasma para a deposição de revestimentos (metálicos, cerâmicos ou com adição de nanopartículas) com foco em proteção de componentes mecânicos contra o desgaste, corrosão e oxidação. Local: UFPR (Curitiba, PR). Contato: (41) 3361-3119.

Fornos mufla, com temperatura máxima de aquecimento de 1.100° C a 1.700° C. Local: UFPR (Curitiba, PR). Contato: (41) 3361-3119.

Análise de superfícies e revestimentos

Estrutura e composição dos materiais

GD-OES (espectroscopia de emissão óptica por descarga luminescente). O equipamento faz, em poucos minutos, a análise dos elementos químicos presentes na amostra, em função da profundidade, da superfície até alguns nanometros ou micrometros. Pode ser usado em materiais sólidos metálicos, cerâmicos e poliméricos. Ideal para controle de qualidade, em particular de superfícies modificadas ou revestidas. Local: UCS (Caxias do Sul, RS), Laboratório de Caracterização de Superfícies em NanoEscala. Contato: Prof. Carlos A. Figueroa - cafiguer@ucs.br. Mais informações sobre a técnica

Retroespalhamento de Rutherford (RBS). Técnica de caracterização elementar. Determina a estequiometria de filmes finos e o perfil de concentração de impurezas. Local: UFGRS (Porto Alegre, RS), Laboratório de Implantação Iônica. Contato: implantador.if.ufrgs.br. Mais informações sobre a técnica: Wikipedia e EAG.

Retroespalhamento de íons com energias intermediárias (MEIS). Técnica de caracterização elementar. Determina o perfil de concentração de impurezas pesadas em filmes ultrafinos (< 50 nm).Local: UFGRS (Porto Alegre, RS), Laboratório de Implantação Iônica.Contato: implantador.if.ufrgs.br. Mais informações sobre a técnica

Produção de raios X por bombardeamento de íons (PIXE). Técnica de caracterização elementar. Determina a concentração de impurezas pesadas em ppm. Local: UFGRS (Porto Alegre, RS), Laboratório de Implantação Iônica.Contato: implantador.if.ufrgs.br. Mais informações sobre a técnica: Wikipedia e MRSEC

Espectroscopia de massa com feixe de ions de alta energia (MeV- SIMS), para caracterização de massa de moléculas orgânicas. Local: UFGRS (Porto Alegre, RS), Laboratório de Implantação Iônica.Contato: implantador.if.ufrgs.br. Mais informações sobre a técnica

Equipamento de fluorescência por RX, XRF 1800 Shimadzu. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia.Contato: andre.vargas@pucrs.br

Espectroscopia de infravermelho com transformada de Fourier, acoplando com microscópio, para caracterização de grupos funcionais com registro da região em que está sendo obtido o espectro. Local: UFSC (Florianópolis, SC), Polimat.Contato: Prof. Alfredo Tibúrcio Nunes Pires - alfredo.pires@ufsc.br.

Espectroscopia de infravermelho com transformada de Fourier (FT-IR) com acessório Universal de Refletância Total Atenuada (UATR). A FT-IR é uma das técnicas atualmente mais utilizadas em Química, já bem estabelecida, e serve tanto à realização controle de qualidade, quanto à elucidação de estruturas moleculares razoavelmente complexas. Os espectros obtidos através da técnica indicam a presença de determinados grupos funcionais nos compostos, auxiliando na determinação estrutural de compostos. O acessório UTAR permite a análise de sólidos não translúcidos sem qualquer tipo de preparação. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Espectroscopia de infravermelho com transformada de Fourier (FT-IR), com acessório ATR. Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Espectrômetro Raman confocal acoplado a microscópio de força atômica (AFM), de fabricação da NT-MDT equipado com laser de estado sólido com emissão no azul. Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Sistema de espectroscopia de espalhamento Raman, LabRam Horiba, com três comprimentos de onda: UV, Visível e IV. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Difratômetro de Raios X – 7000 Shimadzu, para difração de raios X de pós e filmes finos. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia.Contato: andre.vargas@pucrs.br

Espectrômetro de fotoelétrons de raios X (XPS) com fontes de raios X monocromático e de ultravioleta. Equipado com feixe de íons para análises em profundidade e espalhamento de íons em baixa energia. As técnicas de análises incluem, além de XPS: UPS, FEG-SEM, Espectroscopia e microscopia AUGER, análises com resolução em ângulo. Dotado de câmara para inserção e tratamento térmico de amostras em atmosferas de alta pressão de gás. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Centro de Caracterização Avançada para a Indústria do Petróleo. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Microscopias

Microscópio eletrônico de varredura de emissão de campo (MEV-FEG), JEOL Modelo FESEM_JSM-6701F para imagens com resolução nanométrica (amplia até 1 milhão de vezes) e com capacidade de mapeamento químico por EDS. Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Microscópio eletrônico de varredura de emissão de campo (MEV-FEG), para imagens com resolução nanométrica (amplia até 1 milhão de vezes), mapeamento dos elementos químicos da amostra, caracterização qualitativa de resíduos e contaminantes inorgânicos.... Possui software para exibição das imagens em 3 dimensões, muito útil para análise de desgaste, corrosão, fraturas etc. Local: UCS (Caxias do Sul, RS), Laboratório Multiusuário Central de Microscopia Israel Baumvol.Contato: llcmat@ucs.br.

Microscópio eletrônica de varredura de emissão de campo (MEV-FEG), INSPEC F50 30 kV da FEI, equipado com EDX, detecção de elétrons secundários e elétrons retroespalhados e EBSB. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Laboratório Central de Microscopia e Microanálise.Contato: papaleo@pucrs.br. Obs.: equipamento que atende a toda a universidade, agenda limitada. Mais informações

Microscópio eletrônica de varredura de emissão de campo (MEV-FEG), de alta resolução com EDX e EDS pontual e de varredura, MIRA3 – Tescan. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Microscópio de tunelamento (STM), de fabricação da Omicron operando em ultra-alto vácuo (atmosferas limpas) e com facilidade para aquecer amostras in-situ a até 1000o C. Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Microscópio de força atômica (AFM), de fabricação da NT-MDT acoplado a espectrômetro confocal Raman equipado com laser de estado sólido com emissão no azul (473nm). Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Microscópio de força atômica (AFM), Dimension Icon PT da Bruker, equipado com estágio móvel para amostras volumosas (wafer de até 6”), peak force QNM (Análise nanomecânica) e os demais modos convencionais de imageamento (incluindo microscopia em líquidos). Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Laboratório Central de Microscopia e Microanálise.Contato: papaleo@pucrs.br. Obs.: equipamento que atende a toda a universidade, agenda limitada. Mais informações.

Microscópio de força atômica (AFM), Veeco, para medidas de força, imagens e rugosidade. Local: UNICAMP (Campinas, SP), Laboratório de Pesquisa Fotovoltaica.Contato:marques@ifi.unicamp.br.

Microscópio de força atômica (AFM). Local: UCS (Caxias do Sul, RS), Laboratório Multiusuário Central de Microscopia Israel Baumvol.Contato: llcmat@ucs.br.

Microscópio de transmissão (TEM), TECNAI G20 200 kV (LaB6) da FEI, equipado com EDX, STEM e HAADF. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Laboratório Central de Microscopia e Microanálise.Contato: papaleo@pucrs.br. Obs.: equipamento que atende a toda a universidade, agenda limitada. Mais informações

Microscópio eletrônico de varredura (MEV) com espectrometria de energia dispersiva de raios X (EDS ou EDX). O MEV é um equipamento capaz de produzir imagens de alta ampliação (até 300.000 x) e resolução. Com o EDS, realiza o mapeamento da distribuição de elementos químicos, gerando mapas composicionais de elementos desejados. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Microscópio eletrônico de varredura (MEV) com espectrometria de energia dispersiva de raios X (EDX/EDS) pontual e de varredura, VEGA3 – Tescan. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Microscópio eletrônico de varredura (MEV) com espectrometria de energia dispersiva de raios X (EDX/EDS), para imagens e mapeamento dos elementos químicos da amostra. Local: UCS (Caxias do Sul, RS), Laboratório Multiusuário Central de Microscopia Israel Baumvol.Contato: llcmat@ucs.br.

Microscópio Confocal, Leica DM 6000, equipado com análise de co-localização de marcadores fluorescentes, FRAP, FRET, FLIM, ondas de cálcio e avaliação semiquantitativa de proteínas bioluminescentes. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Laboratório Central de Microscopia e Microanálise.Contato: papaleo@pucrs.br. Obs.: equipamento que atende a toda a universidade, agenda limitada. Mais informações

Estereoscópio com câmera, marca Optcam, para aumento de até 200X. Local: CVD Vale Ltda.Contato: Luis Bonetti - (12) 3944-1126.

Microscópio Confocal ZEISS LSM 700, confocal laser scanning microscope (CLSM) com laser azul (comprimento de onda de 405 nm). Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br.

Microscópio Raman Witec, equipado com lasers de 532 e 633 nm de comprimento de onda, acessórios para análises em atmosfera controlada e alta temperatura. AFM acoplado. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Centro de Caracterização Avançada para a Indústria do Petróleo. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Microscópio eletrônico de varredura (MEV) de alta resolução (FEG-SEM), equipado com EDS e STEM e com detectores de elétrons secundários e retroespalhados. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Centro de Caracterização Avançada para a Indústria do Petróleo. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Microscópio Eletrônico de Transmissão de alta resolução, 200 keV de energia máxima dos elétrons, fonte FEG. Equipado com STEM, EDS e EELS. Possibilidade de feixe de baixa energia (80 keV) para amostras sensíveis ao feixe (e.g. nanotubos de carbono e grafeno). Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Centro de Caracterização Avançada para a Indústria do Petróleo. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Microscópio Confocal a laser (LEXT OLS4000) – OLYMPUS permite a captura de imagens sequenciais, pré-definidas, de superfícies sólidas para a construção de imagens topográficas tridimensionais (3D) por meio da metodologia de escaneamento a laser. Possibilita a ampliação da imagem em até 17.000 vezes, possibilita a medição de rugosidade de superfícies sólidas com maior precisão, análises qualitativas e quantitativas de microestruras. Indicado para materiais sólidos metálicos e não metálicos. Local: UFPR (Curitiba, PR). Contato: (41) 3361-3119.

Propriedades mecânicas, tribológicas e térmicas

Tribômetro, para medidas de coeficiente de atrito, desgaste e microindentação UMT CETR (Brooker), com adaptação para medidas em ambientes secos, hidros e corrosivos. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Tribômetro para medidas de coeficiente de atrito e desgaste, UMT CETR (Brooker) em ambiente de alto vácuo. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Macro indentador, marca TH500, TIME Group. Local: CVD Vale Ltda.Contato: Luis Bonetti - (12) 3944-1126.

Tensão-deformação – EMIC. Determinação de propriedades macroscópicas, tais como tensão de ruptura, Módulo de Young. Local: UFSC (Florianópolis, SC), Polimat.Contato: Prof. Alfredo Tibúrcio Nunes Pires - alfredo.pires@ufsc.br.

DMA. Determinação de propriedades térmicas, tais como Tg, tan delta, bem como outros parâmetros físico-químicos. Local: UFSC (Florianópolis, SC), Polimat.Contato: Prof. Alfredo Tibúrcio Nunes Pires - alfredo.pires@ufsc.br.

Medidor de stress. Mede tensões mecânicas, módulo elástico e coeficiente de dilatação térmica de filmes finos. Local: UNICAMP (Campinas, SP), Laboratório de Pesquisa Fotovoltaica.Contato:marques@ifi.unicamp.br

Nanoindentador G200 MTS/Agilent: consiste de duas técnicas; nanoindentação e nanoscratch para medir as propriedades mecânicas, de adesão e coeficiente de atrito. Tem capacidade de carregamento máximo de 500 mN (cabeça XP) e 30 mN (cabeça DCM II). Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br.

Tribômetro-1 UMT-2 CETR/Bruker para medidas de coeficiente de atrito, desgaste com adaptação para medidas em ambientes secos, líquidos e temperaturas até 150oC. Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br.

Tribômetro-2 UMT-2 CETR/Bruker para medidas de indentação e scratch (adesão e coeficiente de atrito) em escalas macro e micro. Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br.

Tribômetro CETR, com modos esfera ou pino-sobre disco ou oscilatório, para faixas de força normal de 0,5 a 50 N ou 10 a 500 mN. Equipado com câmaras para testes em meio líquido e atmosfera controlada. Local: UFF (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de Filmes Finos. Contato: dante@mail.if.uff.br.

Tribômetro de alta temperatura (THT) – ANTON PAAR.O tribômetro THT utiliza o princípio da metodologia Pino-sobre-Disco e analisa propriedades tais como o coeficiente de atrito e a taxa de desgaste de materiais em temperatura ambiente e elevada (até 700°C). Local: UFPR (Curitiba, PR). Contato: (41) 3361-3119.

Equipamento de análise térmica TG-DSC - NETZSCH. É o estudo da relação entre uma propriedade da amostra e sua temperatura, enquanto a amostra é aquecida ou resfriada de maneira controlada, segundo ICTAC. O equipamento permite análises de TGA-DSC ou TGA-DTA, em atmosferas inerte ou oxidante, até a temperatura de 1.200°C. Local: UFPR (Curitiba, PR). Contato: (41) 3361-3119.

Medidas de espessura e área

Perfilômetro óptico, para imagens e medidas de rugosidades de superfícies. Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato:vladimir.airoldi@inpe.br

Perfilômetro, Detktak XT da Bruker, para medir espessuras e rugosidade de filmes finos. Local: PUC-Rio (Rio de Janeiro, RJ), Laboratório de revestimentos protetores e materiais nanoestruturados.Contato: lazaro@vdg.fis.puc-rio.br

Perfilômetro, DektaK Veeco, para medir a espessura de filmes finos. Local: UNICAMP (Campinas, SP), Laboratório de Pesquisa Fotovoltaica.Contato: marques@ifi.unicamp.br

Analisador de área superficial (BET). Realiza análises de área superficial por determinação de isotermas de Brunauer, Emmett e Taller (BET), de volume de poros e distribuição de meso e microporos. Técnica utilizada para determinação de área superficial específica total. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Perfilômetro Detktak XT Bruker para medir espessuras e rugosidade de filmes finos e superfícies em geral. Local: COPPE-UFRJ (Ilha do Fundão, RJ), Laboratório de Recobrimentos Protetores (LRP). Contato: camargo@metalmat.ufrj.br .

Potencial zeta

ZetaSizer Malvern Nano ZS. Medidor de distribuição de tamanho de nanopartículas em solução e potencial Zeta com temperatura controlada até ~90°C. Local: PUCRS (Porto Alegre, RS), Centro Interdisciplinar de Nanociência e Micro-nanotecnologia.Contato: papaleo@pucrs.br.

Analisador de tamanho de partícula e de potencial zeta. O equipamento analisa o tamanho de partícula por espalhamento dinâmico de luz (DLS) e o potencial zeta por análise de fase de luz espalhada (PALS). Em ambos os casos existe necessidade de dispersar a amostra em um meio dispersante aquoso ou orgânico, dentro de alguns limites, com respeito a solventes. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Equipamento para análises de potencial Zeta (nano estruturas – nano partículas). Local: UNIFESP.Contato: Dra. Dayane Tada - (12) 3924-9500.

Preparação de amostras

Infraestrutura para preparação de amostras (cortes, usinagens, polimentos, etc.). Local: INPE (São José dos Campos, SP), Laboratório Associado de Sensores e Materiais (LAS).Contato: vladimir.airoldi@inpe.br

Liofilizador. Equipamento que promove a secagem de amostras por sublimação da água. As amostras são congeladas e, por sublimação, são secas, mantendo diversas características que são perdidas em secagens por outras técnicas. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Outros

Viscosímetro. O equipamento analisa viscosidade e propriedades correlacionadas (calculadas) para amostras líquidas na faixa de 15 a 6.000.000 cP (centipoise). Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Espectrofotômetro colorimétrico. Este equipamento realiza avaliação de cor e de aparência de amostras opacas, transparentes e translúcidas, permitindo a análise e controle da cor e da aparência de sólidos, líquidos, pastas, pós, comprimidos e grânulos. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Titulador Karl-Fischer. A técnica é capaz de avaliar o teor de água de amostras diversas que possam ser diluídas em metanol ou solvente específico para a realização da análise de amostras que contenham grupamentos carbonila de cetona e de aldeído. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Analisador de brilho. O equipamento realiza a medida da intensidade de brilho das superfícies de amostras sólidas em três ângulos diferentes a saber: 20°, 60° e 85°, respectivamente alto, universal e baixo brilho. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Câmara de intemperismo acelerado. Câmara com iluminação UVA e UVB que simula condições de exposição ao ambiente externo com e se a interferência de umidade. Local: Campus II Universidade Feevale (Novo Hamburgo, RS), Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.Contato: Prof. Fernando Morisso - morisso@feevale.br ou tecnologico@feevale.br - (51) 3586-8800 ramal 8732.

Equipamentos para análises de materiais biológicos. Local: UNIVAP (São José dos Campos, SP).Contato: Anderson Lobo e Fernanda Marciano - (12) 3947-1000.


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