quinta-feira, 22 de agosto de 2019 16:58
Empresa parceira do Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, a CVD Vale concluiu recentemente o desenvolvimento e instalação de três equipamentos para deposição de filmes de DLC (diamond-like carbon). Trata-se de dois reatores PECVD baseados na tecnologia de catodo adicional, patenteada pela CVD Vale e o Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE), e um reator híbrido PVD/PECVD. Os reatores PECVD já estão atendendo o mercado, enquanto o equipamento híbrido deverá entrar em operação em algumas semanas.
De acordo com a empresa, que é sediada em São José dos Campos (SP), "com esses sistemas é possível crescer DLC aderente com excelente qualidade em polímeros, cerâmicas e metais a temperatura tão baixa quanto 50 °C". Além disso, é possível ajustar as propriedades dos filmes de DLC (dureza, ação bactericida, coeficiente de atrito, grau de hidrogenação, espessura e outras) para atender às demandas dos clientes, diz a empresa.
A CVD Vale recebeu apoio da Fapesp por meio de projetos PIPE para montar os reatores e estudar os parâmetros do processo em escala laboratorial e industrial.
Fonte: CVD Vale
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