Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies

Artigos e Patentes

Tag "PECVD"

  • 2010

  • M. H. Oliveira, Jr., G. A. Viana, M. M. de Lima, Jr., A. Cros, A. Cantarero, and F. C. Marques. Influence of krypton atoms on the structure of hydrogenated amorphous carbon deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition, J. Appl. Phys. 108, 123525 (2010). / Ver detalhes

  • 2009

  • G. A. Viana and F. C. Marques. Amorphous Carbon Deposited By Sputtering And Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Without Vacuum Pumping During Deposition, International Conference on Metallurgical Coating and Thin Films, San Diego, April 27, 2009. / Ver detalhes

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