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Artigos e Patentes

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  • 2010
  • Gustavo Alexandre Viana (bolsa FAPESP). Desenvolvimento de filmes finos por tcnica de plasma, livre de bombeamento de vcuo, com implantao de xennio para uso potencial no tratamento de Cncer, Campinas, 05/08/2010.Tese de Doutorado. / Ver detalhes

  • 2009
  • DouglasSoares da Silva. Camadas antirefletoras de carbono
    amorfo e carbeto de silcio para clulas solares de silcio cristalino. Dissertao de mestrado. 27/03/2009. / Ver detalhes

  • PauloFernandes Barbieri. PropriedadesEletrnicas e Estruturais do Xennio Implantado em Silcio Amorfo. Tese de doutorado. Campinas,SP,21/09/2009. / Ver detalhes

  • Myriano Henriques de Oliveira Jr. "Propriedadesoptoeletrnicas e estruturais de carbono amorfo tetradrico". Tese de doutorado. 14/08/2009. / Ver detalhes

  • Carvalho S,Juliana.Efeito da modificao de superfcie de titnio tratadas por plasma na proliferao de clulas-tronco visando aplicao odontolgicas (Doutorado em Engenharia de Materiais). Texto na ntegra. / Ver detalhes


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