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Artigos e Patentes

Tag "magnetron sputtering"

  • 2009
  • T. Weber, R. L. O. Basso, G. V. Soares, I. J. R. Baumvol, M. A. Z. Vasconcellos, C. Krug. Deposition and characterization of dc reactive magnetron sputtered titania and alumina coatings. 10th International Workshop Plasma-Based Ion Implantation & Deposition. / Ver detalhes

  • T. Weber, R. L. O. Basso, G. V. Soares, I. J. R. Baumvol, M. A. Z. Vasconcellos, C. Krug. Deposition and characterization of dc reactive magnetron sputtered titania and alumina coatings. 10th International Workshop Plasma-Based Ion Implantation & Deposition. / Ver detalhes

  • Portolan, E.; Amorim, C.L.G. ; Soares, G.V. ; Aguzzoli, C. ; Perottoni, C.A. ; Baumvol, I.J.R.; Figueroa, C.A. Carbon occupancy of interstitial sites in vanadium carbide films deposited by direct current reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, v. 518, p.6493-6496, 2009. DOI 10.1016/j.tsf.2009.03.202 / Ver detalhes


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