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Referência

REBOH, S., Schaurich, F., Declemy, A., Barbot, J. F., Beaufort, M. F., Cherkashin, N., Fichtner, P. F. P. On the microstructure of Si coimplanted with H+ and He+ ions at moderate energies. Journal of Applied Physics. , v.108, p.023502 (2010).

Tipo
Artigos em periódicos internacionais indexados
Grupo de pesquisa
Laboratório de Implantação Iônica - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
Coordenador
Prof. Pedro Luís Grande

Palavras-chave: pedro grande, periódicos internacionais, UFRGS

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