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Referência

T. Weber, R. L. O. Basso, G. V. Soares, I. J. R. Baumvol, M. A. Z. Vasconcellos and C. Krug. Hysteresis effect and film characterization in DC reactive sputteringof titania and alumina. 11th International Conference on Advanced Materials.

Abstract:

In preparation to the fabrication of TiO2/Al2O3 nanolaminates, titania and alumina thin films were deposited on Si single crystals using DC reactive sputtering. Optimal reactive gas flow was determined from a hysteresis loop obtained with simultaneous operation of Ti and Al targets. Film stoichiometry, deposition rate, phase composition and nanohardness were determined. Results indicate that thermal treatment might be necessary to achieve ultrahardness in nanolaminates fabricated under the conditions studied.

Tipo
Trabalhos em conferências internacionais
Grupos de pesquisa
Laboratório de Caracterização de Superfícies em NanoEscala e Laboratório de Caracterização de Materiais - Universidade de Caxias do Sul (UCS)
Laboratório de Físico-Química de Superfícies e Interfaces Sólidas - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
Coordenador
Prof. Cristiano Krug, Prof. Israel Baumvol

Palavras-chave: 2009, alumina, congresso, engenharia de superfícies, hysteresis, Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, krug, sputtering, surface engineering, titania, UFRGS

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