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Referência

Portolan, E.; Amorim, C.L.G. ; Soares, G.V. ; Aguzzoli, C. ; Perottoni, C.A. ; Baumvol, I.J.R.; Figueroa, C.A. Carbon occupancy of interstitial sites in vanadium carbide films deposited by direct current reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, v. 518, p.6493-6496, 2009. DOI 10.1016/j.tsf.2009.03.202

Tipo
Artigos em periódicos internacionais indexados
Grupo de pesquisa
Laboratório de Caracterização de Superfícies em NanoEscala e Laboratório de Caracterização de Materiais - Universidade de Caxias do Sul (UCS)
Coordenador
Prof. Carlos A. Figueroa, Prof. Israel Baumvol

Palavras-chave: 2009, baumvol, carbon occupancy, engenharia de superfícies, figueroa, Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, journal, magnetron sputtering, periódico, surface engineering, UCS, vanadium carbide films

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