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  • 2009

  • E. Oliviero, M. L. David, and P. F. P. Fichtner, Interaction of interstitials with buried amorphous layer in silicon. Phys. Status Solidi C, 1- 5 (2009) / DOI 10.1002/pssc.200881444 / Ver detalhes

  • LACERDA, M. M., PAULI, M., C. F. Silva, FERREIRA, L. L., FRAGALLI, J. F., Oliveira, A L, ZANON, R. A. S. Hydrofobicity of hydrogenated silicon films as a function of substrate temperature In: 11th International conference on advanced materials, 2009, Rio de Janeiro. Annals 11th International Conference on Advanced Materials. , 2009. / Ver detalhes

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