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Artigos e Patentes

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  • 2010

  • Gustavo Alexandre Viana (bolsa FAPESP). Desenvolvimento de filmes finos por técnica de plasma, livre de bombeamento de vácuo, com implantação de xenônio para uso potencial no tratamento de Câncer, Campinas, 05/08/2010.Tese de Doutorado. / Ver detalhes

  • 2009

  • Douglas Soares da Silva. Camadas antirefletoras de carbono
    amorfo e carbeto de silício para células solares de silício cristalino. Dissertação de mestrado. 27/03/2009. / Ver detalhes

  • Paulo Fernandes Barbieri. Propriedades Eletrônicas e Estruturais do Xenônio Implantado em Silício Amorfo. Tese de doutorado. Campinas, SP, 21/09/2009. / Ver detalhes

  • Myriano Henriques de Oliveira Jr. "Propriedades optoeletrônicas e estruturais de carbono amorfo tetraédrico". Tese de doutorado. 14/08/2009. / Ver detalhes

  • Carvalho Sá, Juliana. Efeito  da modificação de superfície de titânio tratadas por plasma na  proliferação de células-tronco visando aplicação odontológicas (Doutorado em Engenharia de Materiais). Texto na íntegra. / Ver detalhes

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