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Artigos e Patentes

Laboratório de Implantação Iônica - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)

Referência

E. Oliviero, M. L. David, and P. F. P. Fichtner, Interaction of interstitials with buried amorphous layer in silicon. Phys. Status Solidi C, 1- 5 (2009) / DOI 10.1002/pssc.200881444

Tipo
Artigos em periódicos internacionais indexados
Grupo de pesquisa
Laboratório de Implantação Iônica - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
Coordenador
Prof. Pedro Luís Grande

Palavras-chave: 2009, amorphous layer, engenharia de superfícies, grande, Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, interstitials, journal, periódico, silicon, surface engineering, UFRGS

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