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Referência

E. Oliviero, M. L. David, and P. F. P. Fichtner, Interaction of interstitials with buried amorphous layer in silicon. Phys. Status Solidi C, 1- 5 (2009) / DOI 10.1002/pssc.200881444

Tipo
Artigos em periódicos internacionais indexados
Grupo de pesquisa
Laboratório de Implantação Iônica - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
Coordenador
Prof. Pedro Luís Grande

Palavras-chave: 2009, amorphous layer, engenharia de superfícies, grande, Instituto Nacional de Engenharia de Superfícies, interstitials, journal, periódico, silicon, surface engineering, UFRGS

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